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英飛凌新突破:20μm超薄硅功率晶圓,基板電阻減半!

   發(fā)布時間:2024-10-29 20:29 作者:陸辰風

英飛凌近日在硅功率晶圓技術(shù)領(lǐng)域取得了重大突破,成功研發(fā)出史上最薄的硅功率晶圓。這一創(chuàng)新成果不僅提升了技術(shù)性能,還為未來功率轉(zhuǎn)換技術(shù)的發(fā)展奠定了基礎(chǔ)。

新研發(fā)的晶圓直徑為30mm,厚度僅為20μm,相當于傳統(tǒng)晶圓厚度的一半,極大地降低了基板電阻和功率損耗。

超薄晶圓技術(shù)的應用,特別是在高端AI服務(wù)器領(lǐng)域,對于實現(xiàn)高效功率轉(zhuǎn)換具有重要意義。它促進了垂直功率傳輸設(shè)計的發(fā)展,提高了整體效率。

英飛凌的這一技術(shù)已獲得市場認可,并已成功應用于其集成智能功率級產(chǎn)品中,交付給了首批客戶。

據(jù)悉,英飛凌將在2024年慕尼黑國際電子元器件博覽會上公開展示這款超薄硅晶圓。

 
 
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