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三星V10 NAND或采用長江存儲專利,存儲行業(yè)合作新動向?

   發(fā)布時間:2025-02-24 18:08 作者:沈瑾瑜

近期,存儲行業(yè)的競爭愈發(fā)激烈,促使NAND技術(shù)不斷取得突破。據(jù)韓媒ZDNet的最新報道,三星可能將在其下一代NAND閃存技術(shù)中,采用中國長江存儲的混合鍵合專利。

據(jù)悉,三星計劃于2025年下半年啟動大規(guī)模生產(chǎn)其V10(第10代)NAND閃存。這款新型NAND預(yù)計將達(dá)到約420至430層的堆疊高度,標(biāo)志著技術(shù)上的又一次飛躍。

報道進(jìn)一步指出,三星與SK海力士正在與長江存儲就一項專利協(xié)議進(jìn)行深入談判。這一消息無疑引起了業(yè)界的廣泛關(guān)注,因?yàn)殚L江存儲在閃存技術(shù)領(lǐng)域的創(chuàng)新已經(jīng)取得了顯著成果。

長江存儲率先在閃存中引入了晶棧Xtacking技術(shù),該技術(shù)通過獨(dú)立加工負(fù)責(zé)數(shù)據(jù)I/O及記憶單元操作的外圍電路,為NAND閃存帶來了更高的I/O接口速度和更多的操作功能。這一創(chuàng)新加工方式的選擇,使得NAND閃存在性能上實(shí)現(xiàn)了顯著提升。

據(jù)知情人士透露,長江存儲在大約四年前就已經(jīng)在該領(lǐng)域建立了強(qiáng)大的專利組合。而三星之前采用的NAND生產(chǎn)技術(shù)為COP(Cell on Peripheral),即將外圍電路放置在一個晶圓上,單元堆疊在其上方。然而,隨著堆疊層數(shù)的不斷增加,特別是當(dāng)超過400層時,下層外圍電路所受的壓力增大,對可靠性造成了影響,因此急需尋找替代方案。

在混合鍵合專利方面,美國Xperi、長江存儲和臺積電占據(jù)了主導(dǎo)地位。三星認(rèn)為,在下一代NAND閃存如V10、V11和V12的生產(chǎn)中,很難繞過這些現(xiàn)有專利。因此,選擇與長江存儲進(jìn)行合作,成為了三星應(yīng)對技術(shù)挑戰(zhàn)的重要策略。

這一合作不僅體現(xiàn)了三星對長江存儲技術(shù)實(shí)力的認(rèn)可,也預(yù)示著存儲行業(yè)將迎來更加緊密的國際合作與技術(shù)交流。隨著NAND技術(shù)的不斷進(jìn)步,存儲行業(yè)的未來充滿了無限可能。

 
 
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